ASML，领先的芯片光刻系统制造商，宣布其EUV（极紫外）光源技术取得突破。研究人员已将光源功率从600瓦提升至1000瓦，并明确了达到1500瓦甚至2000瓦的路径。 预计这一功率提升将到2030年使芯片产量增加50%，帮助ASML在来自美国和中国的竞争对手中保持竞争优势。这项进展侧重于提高*每台机器*的产量，而非缩小组件尺寸，尽管目前的晶体管栅极宽度约为30-50纳米，但仍被宣传为“3纳米”芯片。 此次升级涉及克服EUV系统真空环境中的温度敏感性问题。一个链接的YouTube视频为不熟悉EUV技术的人提供了有用的介绍。